Influence of the magnetic field on the discharge physics of a high power impulse magnetron sputtering discharge

Uloženo v:
Podrobná bibliografie
Vydáno v:Journal of physics. D, Applied physics Ročník 55; číslo 1
Hlavní autoři: Rudolph, M, Brenning, N, Hajihoseini, H, Raadu, M A, Minea, T M, Anders, A, Gudmundsson, J T, Lundin, D
Médium: Journal Article
Jazyk:angličtina
Vydáno: IOP Publishing 06.10.2021
Témata:
high power impulse magnetron sputtering
magnetron sputtering
sputter deposition
sputtering
ISSN:0022-3727, 1361-6463
On-line přístup:Získat plný text
Tagy: Přidat tag
Žádné tagy, Buďte první, kdo vytvoří štítek k tomuto záznamu!
Popis
Bibliografie:JPhysD-128492.R1
ISSN:0022-3727
1361-6463
DOI:10.1088/1361-6463/ac2968