Illuminating nonlinear dependence of film deposition rate in a CVD reactor on operating conditions

[Display omitted] ► Illumination of nonlinear dependence, through variation of operating parameters, of film deposition rate on prevailing flow patterns in a steady-state CVD reactor. ► Case study: silicon deposition. ► Nonlinearities captured by linking the recursive projection method (RPM) with co...

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Chemical engineering journal (Lausanne, Switzerland : 1996) Jg. 181-182; S. 516 - 523
Hauptverfasser:	Cheimarios, N., Koronaki, E.D., Boudouvis, A.G.
Format:	Journal Article
Sprache:	Englisch
Veröffentlicht:	Elsevier B.V 01.02.2012
Schlagworte:	algorithms Arrhenius plot case studies chemical engineering Chemical vapor deposition chemistry Computational fluid dynamics equations Mixed convection flows Nonlinear phenomena Recursive projection method (RPM) silicon temperature Nonlinear phenomena Mixed convection flows Computational fluid dynamics Chemical vapor deposition Arrhenius plot Recursive projection method (RPM)
ISSN:	1385-8947, 1873-3212
Online-Zugang:	Volltext
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