Factors influencing ion energy distributions in pulsed inductively coupled argon plasmas

Pulsed plasmas are important for the fabrication of nanoscale features. Source biasing is generally associated with the control of the ion to radical flux ratio; how the ion energy distribution function varies over a pulse period is also important. In this paper, we experimentally investigate the ef...

Celý popis

Podrobná bibliografie

Vydáno v:	Journal of physics. D, Applied physics Ročník 53; číslo 33
Hlavní autoři:	Chen, Zhiying, Longo, Roberto C, Hummel, Michael, Carruth, Megan, Blakeney, Joel, Ventzek, Peter, Ranjan, Alok
Médium:	Journal Article
Jazyk:	angličtina
Vydáno:	IOP Publishing 12.08.2020
Témata:	fluid plasma simulation ion energy distribution pulse transient pulsed plasma
ISSN:	0022-3727, 1361-6463
On-line přístup:	Získat plný text
Tagy:	Přidat tag Žádné tagy, Buďte první, kdo vytvoří štítek k tomuto záznamu!