Thermal stability of oxygen vacancy stabilized zirconia (OVSZ) thin films

Thermal stability of reactive magnetron sputter deposited oxygen vacancy stabilized cubic zirconia (OVSZ) thin films containing 16 and 3 at.% oxygen vacancies is reported. Temperature-resolved grazing incidence X-ray diffraction (TR-GIXRD) measurements (200–900 °C) in air and nitrogen atmosphere wer...

Celý popis

Uložené v:

Podrobná bibliografia
Vydané v:	Surface & coatings technology Ročník 409; s. 126880
Hlavní autori:	Raza, Mohsin, Boulet, Pascal, Pierson, Jean-François, Snyders, Rony, Konstantinidis, Stéphanos
Médium:	Journal Article
Jazyk:	English
Vydavateľské údaje:	Lausanne Elsevier B.V 15.03.2021 Elsevier BV Elsevier
Predmet:	Chemical Sciences Compressive properties Condensed Matter Cubic zirconia Material chemistry Materials Science Oxygen Oxygen vacancy Phase transformation Physics Stress Substrates Thermal cycling Thermal expansion Thermal stability Thin films Vacancies Zirconium dioxide Phase transformation Cubic zirconia Thermal stability Stress Oxygen vacancy
ISSN:	0257-8972, 1879-3347, 1879-3347
On-line prístup:	Získať plný text
Tagy:	Pridať tag Žiadne tagy, Buďte prvý, kto otaguje tento záznam!

Buďte prvý, kto okomentuje tento záznam!