Thermal stability of oxygen vacancy stabilized zirconia (OVSZ) thin films

Thermal stability of reactive magnetron sputter deposited oxygen vacancy stabilized cubic zirconia (OVSZ) thin films containing 16 and 3 at.% oxygen vacancies is reported. Temperature-resolved grazing incidence X-ray diffraction (TR-GIXRD) measurements (200–900 °C) in air and nitrogen atmosphere wer...

Celý popis

Uloženo v:

Podrobná bibliografie
Vydáno v:	Surface & coatings technology Ročník 409; s. 126880
Hlavní autoři:	Raza, Mohsin, Boulet, Pascal, Pierson, Jean-François, Snyders, Rony, Konstantinidis, Stéphanos
Médium:	Journal Article
Jazyk:	angličtina
Vydáno:	Lausanne Elsevier B.V 15.03.2021 Elsevier BV Elsevier
Témata:	Chemical Sciences Compressive properties Condensed Matter Cubic zirconia Material chemistry Materials Science Oxygen Oxygen vacancy Phase transformation Physics Stress Substrates Thermal cycling Thermal expansion Thermal stability Thin films Vacancies Zirconium dioxide Phase transformation Cubic zirconia Thermal stability Stress Oxygen vacancy
ISSN:	0257-8972, 1879-3347, 1879-3347
On-line přístup:	Získat plný text
Tagy:	Přidat tag Žádné tagy, Buďte první, kdo vytvoří štítek k tomuto záznamu!

Buďte první, kdo okomentuje tento záznam!