Enhanced photoelectrochemical properties of WO3 thin films fabricated by reactive magnetron sputtering

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:International journal of hydrogen energy Jg. 36; H. 8; S. 4724 - 4731
Hauptverfasser: Vidyarthi, Vinay Shankar, Hofmann, Martin, Savan, Alan, Sliozberg, Kirill, König, Dennis, Beranek, Radim, Schuhmann, Wolfgang, Ludwig, Alfred
Format: Journal Article
Sprache:Englisch
Veröffentlicht: Kidlington Elsevier 01.04.2011
Schlagworte:
Alternative fuels. Production and utilization
Applied sciences
Energy
Exact sciences and technology
Fuels
Hydrogen
High-throughput
Magnetron
Hydrogen
Reactive magnetron sputtering
Gas pressure
Steady state
Thin film
Tungsten oxide
Photocurrent
Tungsten
Solar water splitting
Thickness-gradient
Chemical decomposition
Microstructure
Charge transfer
Photooxidation
ISSN:0360-3199
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
ISSN:0360-3199
DOI:10.1016/j.ijhydene.2011.01.087