Enhanced photoelectrochemical properties of WO3 thin films fabricated by reactive magnetron sputtering

Uloženo v:

Podrobná bibliografie
Vydáno v:	International journal of hydrogen energy Ročník 36; číslo 8; s. 4724 - 4731
Hlavní autoři:	Vidyarthi, Vinay Shankar, Hofmann, Martin, Savan, Alan, Sliozberg, Kirill, König, Dennis, Beranek, Radim, Schuhmann, Wolfgang, Ludwig, Alfred
Médium:	Journal Article
Jazyk:	angličtina
Vydáno:	Kidlington Elsevier 01.04.2011
Témata:	Alternative fuels. Production and utilization Applied sciences Energy Exact sciences and technology Fuels Hydrogen High-throughput Magnetron Hydrogen Reactive magnetron sputtering Gas pressure Steady state Thin film Tungsten oxide Photocurrent Tungsten Solar water splitting Thickness-gradient Chemical decomposition Microstructure Charge transfer Photooxidation
ISSN:	0360-3199
On-line přístup:	Získat plný text
Tagy:	Přidat tag Žádné tagy, Buďte první, kdo vytvoří štítek k tomuto záznamu!

Popis
ISSN:	0360-3199
DOI:	10.1016/j.ijhydene.2011.01.087