Computer simulation of obtaining thin films of silicon carbide
Silicon carbide films are potential candidates for the development of microsystems with harsh environmental conditions. In this work, the production of high-purity silicon carbide films by the electrolytic method is reproduced in a computer model. Single-layer SiC films were deposited on nickel, cop...
Uloženo v:
| Vydáno v: | Physical chemistry chemical physics : PCCP Ročník 25; číslo 5; s. 3834 |
|---|---|
| Hlavní autoři: | , |
| Médium: | Journal Article |
| Jazyk: | angličtina |
| Vydáno: |
England
01.02.2023
|
| ISSN: | 1463-9084, 1463-9084 |
| On-line přístup: | Zjistit podrobnosti o přístupu |
| Tagy: |
Přidat tag
Žádné tagy, Buďte první, kdo vytvoří štítek k tomuto záznamu!
|
Buďte první, kdo okomentuje tento záznam!