Optimized circularly symmetric phase mask to extend the depth of focus

We propose a novel design method for a circularly symmetric phase mask to extend the depth of focus. Using the free-form rational function as the solution space, we optimize the profile of the phase mask by analysis of the axial intensity distribution, which can be calculated efficiently by employin...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Optical Society of America. A, Optics, image science, and vision Jg. 26; H. 8; S. 1889
Hauptverfasser:	Zhou, Feng, Ye, Ran, Li, Guangwei, Zhang, Haitao, Wang, Dongsheng
Format:	Journal Article
Sprache:	Englisch
Veröffentlicht:	United States 01.08.2009
ISSN:	1084-7529
Online-Zugang:	Weitere Angaben
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!

Schreiben Sie den ersten Kommentar!