Energy dependence of morphologies on photoresist surfaces under Ar+ ion bombardment with normal incidence

[Display omitted] •Energy dependence of resist morphology under ion bombardment is demonstrated.•Light molecules in organic resist were enriched by ion bombardment.•Ion energy shows great potential for modulating chemistry and morphology.•Nanoholes were formed on organic resist in a wide ion energy...

Celý popis

Podrobná bibliografie

Vydáno v:	Applied surface science Ročník 523; s. 146510
Hlavní autoři:	Yang, Gaoyuan, Hirsch, Dietmar, Li, Jinyu, Liu, Ying, Frost, Frank, Hong, Yilin
Médium:	Journal Article
Jazyk:	angličtina
Vydáno:	Elsevier B.V 01.09.2020
Témata:	Ion bombardment Ion energy Nanoholes Nanostructures Photoresist surface ToF-SIMS Nanostructures ToF-SIMS Ion energy Photoresist surface Ion bombardment Nanoholes
ISSN:	0169-4332, 1873-5584
On-line přístup:	Získat plný text
Tagy:	Přidat tag Žádné tagy, Buďte první, kdo vytvoří štítek k tomuto záznamu!