Curvilinear Optical Proximity Correction via Cardinal Spline

This paper presents a novel curvilinear optical proximity correction (OPC) framework. The proposed approach involves representing mask patterns with control points, which are interconnected through cardinal splines. Mask optimization is achieved by iteratively adjusting these control points, guided...

Celý popis

Podrobná bibliografie

Vydáno v:	2025 62nd ACM/IEEE Design Automation Conference (DAC) s. 1 - 7
Hlavní autoři:	Zheng, Su, Liang, Xiaoxiao, Yu, Ziyang, Ma, Yuzhe, Yu, Bei, Wong, Martin
Médium:	Konferenční příspěvek
Jazyk:	angličtina
Vydáno:	IEEE 22.06.2025
Témata:	Adaptive optics Design automation Fitting Layout Lithography Optical interconnections Optimization Scalability Splines (mathematics) Testing
On-line přístup:	Získat plný text
Tagy:	Přidat tag Žádné tagy, Buďte první, kdo vytvoří štítek k tomuto záznamu!