Caracterización de X-pinches de cobre y su aplicación como fuente de rayos X para deflectometría Talbot-Lau
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| Title: | Caracterización de X-pinches de cobre y su aplicación como fuente de rayos X para deflectometría Talbot-Lau |
|---|---|
| Authors: | Vescovi, Milenko |
| Contributors: | Veloso Espinosa, Felipe Eduardo, Pontificia Universidad Católica de Chile. Instituto de Física |
| Publisher Information: | Pontificia Universidad Catolica de Chile, 2023. |
| Publication Year: | 2023 |
| Subject Terms: | Efecto pinch (Física), Matemática física y química, 530.44, Física del plasma, Rayos X, Espectrómetros |
| Description: | Tesis (Magíster en Física)--Pontificia Universidad Católica de Chile, 2020 ; Se caracterizó espacial, temporal y espectralmente la emisión de rayos X proveniente de un X-pinch de 4 alambres de cobre de 25µm de diámetro en el generador Llampüdkeñ, con el fin de evaluar su uso como backlighter para deflectometría moiré-Talbot Lau. Se midió una fuente central de 50 − 150µm, con emisión significativa en el rango < 5keV. Por medio de un espectrómetro especialmente diseñado y construido para este trabajo, se determinó que la radiación en esta región corresponde principalmente a emisión continua. La fuente central, asociada al hotspot, tiene una menor emisión en el rango cercano a 8keV, correspondiente a emisión satélite K de iones tipo Li. En este rango de energías y en rayos X duros, la emisión dominante proviene del plasma ∼ 300 − 400µm sobre la fuente central, hacia el ánodo. Desde esta región se detectaron fuentes de tamaño milimétrico, posteriores a la emisión central y asociadas a haces de electrones acelerados a través del gap formado tras la primera emisión. Se midió emisión cercana a 8 − 8.3keV proveniente de una región de tamaño extendido en el espectrómetro, además de un intenso continuo en energías > 9keV. Se usó un deflectómetro Talbot-Lau de orden 1, optimizado para 8keV a 5 − 6cm del plasma, con un objeto de fase de prueba (placa de Be). Usando el X-pinch como fuente se obtuvieron patrones de franjas que permitieron estimar la densidad de la placa con una diferencia porcentual menor al 13 %. Se observa un contraste disminuido en los patrones moiré (< 18 %), posiblemente asociado a la emisión en un amplio espectro proveniente de las fuentes de mayor tamaño en el X-pinch. Se observó depósito de material, ruptura y curvatura en los filtros protectores del deflectómetro, lo que en general no afectó la toma de datos. No se observan efectos de campo magnético ni temperatura que afecten la formación del patrón final. Según los resultados, el X-pinch es una fuente útil para deflectometría Talbot-Lau en ... |
| Document Type: | Doctoral thesis Master thesis |
| File Description: | application/pdf |
| DOI: | 10.7764/tesisuc/fis/29303 |
| Accession Number: | edsair.doi.dedup.....2f0f952f236daa213b53306bd77b72ba |
| Database: | OpenAIRE |
Nájsť tento článok vo Web of Science | Abstract: | Tesis (Magíster en Física)--Pontificia Universidad Católica de Chile, 2020 ; Se caracterizó espacial, temporal y espectralmente la emisión de rayos X proveniente de un X-pinch de 4 alambres de cobre de 25µm de diámetro en el generador Llampüdkeñ, con el fin de evaluar su uso como backlighter para deflectometría moiré-Talbot Lau. Se midió una fuente central de 50 − 150µm, con emisión significativa en el rango < 5keV. Por medio de un espectrómetro especialmente diseñado y construido para este trabajo, se determinó que la radiación en esta región corresponde principalmente a emisión continua. La fuente central, asociada al hotspot, tiene una menor emisión en el rango cercano a 8keV, correspondiente a emisión satélite K de iones tipo Li. En este rango de energías y en rayos X duros, la emisión dominante proviene del plasma ∼ 300 − 400µm sobre la fuente central, hacia el ánodo. Desde esta región se detectaron fuentes de tamaño milimétrico, posteriores a la emisión central y asociadas a haces de electrones acelerados a través del gap formado tras la primera emisión. Se midió emisión cercana a 8 − 8.3keV proveniente de una región de tamaño extendido en el espectrómetro, además de un intenso continuo en energías > 9keV. Se usó un deflectómetro Talbot-Lau de orden 1, optimizado para 8keV a 5 − 6cm del plasma, con un objeto de fase de prueba (placa de Be). Usando el X-pinch como fuente se obtuvieron patrones de franjas que permitieron estimar la densidad de la placa con una diferencia porcentual menor al 13 %. Se observa un contraste disminuido en los patrones moiré (< 18 %), posiblemente asociado a la emisión en un amplio espectro proveniente de las fuentes de mayor tamaño en el X-pinch. Se observó depósito de material, ruptura y curvatura en los filtros protectores del deflectómetro, lo que en general no afectó la toma de datos. No se observan efectos de campo magnético ni temperatura que afecten la formación del patrón final. Según los resultados, el X-pinch es una fuente útil para deflectometría Talbot-Lau en ... |
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| DOI: | 10.7764/tesisuc/fis/29303 |