Author response for 'Fabrication of high performance memristor device by metallization of Ag+ inside a solution processed Li5AlO4 thin film'

Uloženo v:
Podrobná bibliografie
Název: Author response for 'Fabrication of high performance memristor device by metallization of Ag+ inside a solution processed Li5AlO4 thin film'
Autoři: null Subarna Pramanik, null Rajarshi Chakraborty, null Sobhan Hazra, null Utkarsh Pandey, null Bhola Nath Pal
Informace o vydavateli: Royal Society of Chemistry (RSC), 2024.
Rok vydání: 2024
Druh dokumentu: Review
DOI: 10.1039/d4tc02527j/v2/response1
Přístupové číslo: edsair.doi...........068fafb22f678b083038ad5616fedfdc
Databáze: OpenAIRE
Popis
DOI:10.1039/d4tc02527j/v2/response1