Illuminating nonlinear dependence of film deposition rate in a CVD reactor on operating conditions

[Display omitted] ► Illumination of nonlinear dependence, through variation of operating parameters, of film deposition rate on prevailing flow patterns in a steady-state CVD reactor. ► Case study: silicon deposition. ► Nonlinearities captured by linking the recursive projection method (RPM) with co...

Celý popis

Uloženo v:

Podrobná bibliografie
Vydáno v:	Chemical engineering journal (Lausanne, Switzerland : 1996) Ročník 181-182; s. 516 - 523
Hlavní autoři:	Cheimarios, N., Koronaki, E.D., Boudouvis, A.G.
Médium:	Journal Article
Jazyk:	angličtina
Vydáno:	Elsevier B.V 01.02.2012
Témata:	algorithms Arrhenius plot case studies chemical engineering Chemical vapor deposition chemistry Computational fluid dynamics equations Mixed convection flows Nonlinear phenomena Recursive projection method (RPM) silicon temperature Nonlinear phenomena Mixed convection flows Computational fluid dynamics Chemical vapor deposition Arrhenius plot Recursive projection method (RPM)
ISSN:	1385-8947, 1873-3212
On-line přístup:	Získat plný text
Tagy:	Přidat tag Žádné tagy, Buďte první, kdo vytvoří štítek k tomuto záznamu!

Buďte první, kdo okomentuje tento záznam!