Physics and technology of magnetron sputtering discharges

Magnetron sputtering deposition has become the most widely used technique for deposition of both metallic and compound thin films and is utilized in numerous industrial applications. There has been a continuous development of the magnetron sputtering technology to improve target utilization, increas...

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Plasma sources science & technology Jg. 29; H. 11
1. Verfasser:	Gudmundsson, J T
Format:	Journal Article
Sprache:	Englisch
Veröffentlicht:	IOP Publishing 01.11.2020
Schlagworte:	dc diode sputtering dc discharge E×B discharge magnetron sputtering discharge physical vapor deposition reactive sputtering sputtering
ISSN:	0963-0252, 1361-6595
Online-Zugang:	Volltext
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