Physics and technology of magnetron sputtering discharges

Magnetron sputtering deposition has become the most widely used technique for deposition of both metallic and compound thin films and is utilized in numerous industrial applications. There has been a continuous development of the magnetron sputtering technology to improve target utilization, increas...

Celý popis

Podrobná bibliografie

Vydáno v:	Plasma sources science & technology Ročník 29; číslo 11
Hlavní autor:	Gudmundsson, J T
Médium:	Journal Article
Jazyk:	angličtina
Vydáno:	IOP Publishing 01.11.2020
Témata:	dc diode sputtering dc discharge E×B discharge magnetron sputtering discharge physical vapor deposition reactive sputtering sputtering
ISSN:	0963-0252, 1361-6595
On-line přístup:	Získat plný text
Tagy:	Přidat tag Žádné tagy, Buďte první, kdo vytvoří štítek k tomuto záznamu!