XPS investigation of monatomic and cluster argon ion sputtering of tantalum pentoxide

•Ion beam induced oxide reduction from monatomic and gas cluster ion beam exposure are compared.•Lower relative level of preferential sputtering is shown in gas cluster ion beam depth profiling.•A lack of “steady state” is observed in gas cluster ion beam depth profiles of tantalum pentoxide.•Possib...

Celý popis

Podrobná bibliografia

Vydané v:	Applied surface science Ročník 405; s. 79 - 87
Hlavní autori:	Simpson, Robin, White, Richard G., Watts, John F., Baker, Mark A.
Médium:	Journal Article
Jazyk:	English
Vydavateľské údaje:	Elsevier B.V 31.05.2017
Predmet:	Cluster Ion beam Oxide Sputtering Ta2O5 XPS Oxide Ion beam Cluster XPS Sputtering Ta2O5
ISSN:	0169-4332, 1873-5584
On-line prístup:	Získať plný text
Tagy:	Pridať tag Žiadne tagy, Buďte prvý, kto otaguje tento záznam!