XPS investigation of monatomic and cluster argon ion sputtering of tantalum pentoxide

•Ion beam induced oxide reduction from monatomic and gas cluster ion beam exposure are compared.•Lower relative level of preferential sputtering is shown in gas cluster ion beam depth profiling.•A lack of “steady state” is observed in gas cluster ion beam depth profiles of tantalum pentoxide.•Possib...

Celý popis

Podrobná bibliografie

Vydáno v:	Applied surface science Ročník 405; s. 79 - 87
Hlavní autoři:	Simpson, Robin, White, Richard G., Watts, John F., Baker, Mark A.
Médium:	Journal Article
Jazyk:	angličtina
Vydáno:	Elsevier B.V 31.05.2017
Témata:	Cluster Ion beam Oxide Sputtering Ta2O5 XPS Oxide Ion beam Cluster XPS Sputtering Ta2O5
ISSN:	0169-4332, 1873-5584
On-line přístup:	Získat plný text
Tagy:	Přidat tag Žádné tagy, Buďte první, kdo vytvoří štítek k tomuto záznamu!