Electrical properties of strained off-stoichiometric Cu–Cr–O delafossite thin films

Off-stoichiometric Cu-Cr-O delafossite thin films with different thicknesses were grown by metal organic chemical vapor deposition on substrates with different coefficients of thermal expansion. Seebeck thermoelectric coefficient and resistivity measurements were performed on the range of 300-850 K....

Celý popis

Podrobná bibliografie

Vydáno v:	Journal of physics. Condensed matter Ročník 36; číslo 21
Hlavní autoři:	Moreira, Marco, Crêpellière, Jonathan, Polesel-Maris, Jérôme, Leturcq, Renaud, Guillot, Jérôme, Fleming, Yves, Lunca-Popa, Petru
Médium:	Journal Article
Jazyk:	angličtina
Vydáno:	England IOP Publishing 29.05.2024
Témata:	copper chromium oxide delafossite electronic properties strain strain electronic properties off-stoichiometric copper chromium oxide
ISSN:	0953-8984, 1361-648X, 1361-648X
On-line přístup:	Získat plný text
Tagy:	Přidat tag Žádné tagy, Buďte první, kdo vytvoří štítek k tomuto záznamu!