Computer simulation of obtaining thin films of silicon carbide
Silicon carbide films are potential candidates for the development of microsystems with harsh environmental conditions. In this work, the production of high-purity silicon carbide films by the electrolytic method is reproduced in a computer model. Single-layer SiC films were deposited on nickel, cop...
Uložené v:
| Vydané v: | Physical chemistry chemical physics : PCCP Ročník 25; číslo 5; s. 3834 |
|---|---|
| Hlavní autori: | , |
| Médium: | Journal Article |
| Jazyk: | English |
| Vydavateľské údaje: |
England
01.02.2023
|
| ISSN: | 1463-9084, 1463-9084 |
| On-line prístup: | Zistit podrobnosti o prístupe |
| Tagy: |
Pridať tag
Žiadne tagy, Buďte prvý, kto otaguje tento záznam!
|
Buďte prvý, kto okomentuje tento záznam!