Optimized circularly symmetric phase mask to extend the depth of focus
We propose a novel design method for a circularly symmetric phase mask to extend the depth of focus. Using the free-form rational function as the solution space, we optimize the profile of the phase mask by analysis of the axial intensity distribution, which can be calculated efficiently by employin...
Uloženo v:
| Vydáno v: | Journal of the Optical Society of America. A, Optics, image science, and vision Ročník 26; číslo 8; s. 1889 |
|---|---|
| Hlavní autoři: | , , , , |
| Médium: | Journal Article |
| Jazyk: | angličtina |
| Vydáno: |
United States
01.08.2009
|
| ISSN: | 1084-7529 |
| On-line přístup: | Zjistit podrobnosti o přístupu |
| Tagy: |
Přidat tag
Žádné tagy, Buďte první, kdo vytvoří štítek k tomuto záznamu!
|
Buďte první, kdo okomentuje tento záznam!