Theoretical insights into the impact of border and interface traps on hysteresis in monolayer MoS2 FETs

Threshold voltage hysteresis ΔVh in two-dimensional transistor transfer characteristics poses a bottleneck in achieving stable 2D CMOS integrated circuits. Hysteresis is primarily attributed to traps at the channel/oxide interface as well as in the oxide. In this study, we present a physics-based se...

Celý popis

Uloženo v:
Podrobná bibliografie
Vydáno v:Microelectronic engineering Ročník 299; s. 112333
Hlavní autoři: Ghosh, Rittik, Provias, Alexandros, Karl, Alexander, Wilhelmer, Christoph, Knobloch, Theresia, Davoudi, Mohammad Rasool, Sattari-Esfahlan, Seyed Mehdi, Waldhör, Dominic, Grasser, Tibor
Médium: Journal Article
Jazyk:angličtina
Vydáno: Elsevier B.V 15.09.2025
Témata:
ISSN:0167-9317
On-line přístup:Získat plný text
Tagy: Přidat tag
Žádné tagy, Buďte první, kdo vytvoří štítek k tomuto záznamu!
Buďte první, kdo okomentuje tento záznam!
Nejprve se musíte přihlásit.