Theoretical insights into the impact of border and interface traps on hysteresis in monolayer MoS2 FETs
Threshold voltage hysteresis ΔVh in two-dimensional transistor transfer characteristics poses a bottleneck in achieving stable 2D CMOS integrated circuits. Hysteresis is primarily attributed to traps at the channel/oxide interface as well as in the oxide. In this study, we present a physics-based se...
Uloženo v:
| Vydáno v: | Microelectronic engineering Ročník 299; s. 112333 |
|---|---|
| Hlavní autoři: | , , , , , , , , |
| Médium: | Journal Article |
| Jazyk: | angličtina |
| Vydáno: |
Elsevier B.V
15.09.2025
|
| Témata: | |
| ISSN: | 0167-9317 |
| On-line přístup: | Získat plný text |
| Tagy: |
Přidat tag
Žádné tagy, Buďte první, kdo vytvoří štítek k tomuto záznamu!
|
Buďte první, kdo okomentuje tento záznam!