Hybrid HIPIMS+MFMS power supply for dual magnetron sputtering systems

The paper presents a novel power supply device that provides a hybrid technique of dual magnetron sputtering. This power supply generates a sequence of bipolar pulses which provides both mid-frequency and high-power impulse magnetron sputtering. This allows using the advantages of both techniques, w...

Celý popis

Podrobná bibliografie

Vydáno v:	Vacuum Ročník 181; s. 109670
Hlavní autoři:	Oskirko, V.O., Zakharov, A.N., Pavlov, A.P., Solovyev, А.А., Semenov, V.A., Rabotkin, S.V.
Médium:	Journal Article
Jazyk:	angličtina
Vydáno:	Elsevier Ltd 01.11.2020
Témata:	Dual magnetron sputtering High-power impulse magnetron sputtering Mid-frequency magnetron sputtering Superimposed MF and HIPIMS High-power impulse magnetron sputtering Mid-frequency magnetron sputtering Dual magnetron sputtering Superimposed MF and HIPIMS
ISSN:	0042-207X, 1879-2715
On-line přístup:	Získat plný text
Tagy:	Přidat tag Žádné tagy, Buďte první, kdo vytvoří štítek k tomuto záznamu!