Metal-Catalyzed Electroless Etching of Silicon in Aerated HF/H2O Vapor for Facile Fabrication of Silicon Nanostructures

Inspired by metal corrosion in air, we demonstrate that metal-catalyzed electroless etching (MCEE) of silicon can be performed simply in aerated HF/H2O vapor for facile fabrication of three-dimensional silicon nanostructures such as silicon nanowires (SiNW) arrays. Compared to MCEE commonly performe...

Celý popis

Uloženo v:
Podrobná bibliografie
Vydáno v:Nano letters Ročník 14; číslo 8; s. 4212 - 4219
Hlavní autoři: Hu, Ya, Peng, Kui-Qing, Qiao, Zhen, Huang, Xing, Zhang, Fu-Qiang, Sun, Rui-Nan, Meng, Xiang-Min, Lee, Shuit-Tong
Médium: Journal Article
Jazyk:angličtina
Vydáno: Washington, DC American Chemical Society 13.08.2014
Témata:
ISSN:1530-6984, 1530-6992, 1530-6992
On-line přístup:Získat plný text
Tagy: Přidat tag
Žádné tagy, Buďte první, kdo vytvoří štítek k tomuto záznamu!
Buďte první, kdo okomentuje tento záznam!
Nejprve se musíte přihlásit.