AdaOPC: A Self-Adaptive Mask Optimization Framework For Real Design Patterns

Optical proximity correction (OPC) is a widely-used resolution enhancement technique (RET) for printability optimization. Recently, rigorous numerical optimization and fast machine learning are the research focus of OPC in both academia and industry, each of which complements the other in terms of r...

Celý popis

Podrobná bibliografie

Vydáno v:	2022 IEEE/ACM International Conference On Computer Aided Design (ICCAD) s. 1 - 9
Hlavní autoři:	Zhao, Wenqian, Yao, Xufeng, Yu, Ziyang, Chen, Guojin, Ma, Yuzhe, Yu, Bei, Wong, Martin D.F.
Médium:	Konferenční příspěvek
Jazyk:	angličtina
Vydáno:	ACM 29.10.2022
Témata:	Industries Layout Libraries Machine learning Robustness Search problems Shape
ISSN:	1558-2434
On-line přístup:	Získat plný text
Tagy:	Přidat tag Žádné tagy, Buďte první, kdo vytvoří štítek k tomuto záznamu!