Atomic layer epitaxy growth of titanium, zirconium and hafnium dioxide thin films /

Saved in:
Bibliographic Details
Main Author: Ritala, Mikko
Other Authors: Koskikallio, J. (Editor)
Format: Thesis Book
Language:English
Published: Helsinki : Suomalainen Tiedeakatemia, 1994
Edition:[1st ed.]
Series:II. Chemica : Series A Vol. 257
Subjects:
kysličníkový supravodič > termodynamika > mechanika
ISBN:9514107551
ISSN:0066-1961
Online Access: Get full text
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!

MARC

LEADER 00000nam a2200000 4500
003 SK-BrCVT
005 20220617185406.0
008 950104s1994 fi e ||||||eng d
020 |a 9514107551 
022 |a 0066-1961 
035 |a CVTIDW0929861 
040 |b slo  |a CVTI SR  |e AACR2 
041 0 |a eng 
044 |a fi 
080 |a 538.945(043.3)  |2 UDC-MRF 
080 |a 546.821-31(043.3)  |2 UDC-MRF 
080 |a 546.83-31(043.3)  |2 UDC-MRF 
100 1 |a Ritala, Mikko 
242 1 0 |a Epitaxný rast atómových vrstiev tenkých filmov oxidu titaničitého, oxidu zirkoničitého a oxidu hafničitého 
245 1 0 |a Atomic layer epitaxy growth of titanium, zirconium and hafnium dioxide thin films /  |c Mikko Ritala ; Red.: J. Koskikallio 
250 |a [1st ed.] 
260 |a Helsinki :  |b Suomalainen Tiedeakatemia,  |c 1994 
300 |a 48 s. :  |b grafy, lit., obr., tab. ; 
490 0 |a II. Chemica : Series A  |v Vol. 257 
502 |d 19. 5. 1994 
653 1 |a kysličníkový supravodič  |a termodynamika  |a mechanika 
692 |a SM VD PR PO MM 
700 1 |a Koskikallio, J.  |4 edt 
760 1 |t II. Chemica  |g Vol. 257 
910 |b A545300 
919 |a 951-41-0755-1 
974 |f Knihy 
992 |a DDZ 
999 |c 87291  |d 87291 

Similar Items