X-RAY DIFFRACTION. STUDY OF POLYCRYSTALLINE SILICON LAYERS /
Uloženo v:
| Hlavní autor: | |
|---|---|
| Médium: | Kniha |
| Jazyk: | angličtina |
| Vydáno: |
Delft :
Technische Hogeschool,
1985
|
| On-line přístup: |
|
| Tagy: |
Přidat tag
Žádné tagy, Buďte první, kdo vytvoří štítek k tomuto záznamu!
|
MARC
| LEADER | 00000nam a2200000 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 003 | SK-BrCVT | ||
| 005 | 20220617183146.0 | ||
| 008 | 860101s1985 ne e ||||||eng d | ||
| 035 | |a CVTIDW0927241 | ||
| 040 | |b slo |a CVTI SR | ||
| 041 | 0 | |a eng | |
| 044 | |a ne | ||
| 080 | |a 535.44 |2 UDC-MRF | ||
| 080 | |a 535-34 |2 UDC-MRF | ||
| 100 | 1 | |a Hendriks, Menso | |
| 242 | 1 | 0 | |a DIFRAKCIA RÖNTGENOVÉHO ŽIARENIA. ŠTÚDIA O POLYKRYŠTALICKÝCH KREMÍKOVÝCH VRSTVÁCH |
| 245 | 1 | 0 | |a X-RAY DIFFRACTION. STUDY OF POLYCRYSTALLINE SILICON LAYERS / |c Menso Hendriks |
| 260 | |a Delft : |b Technische Hogeschool, |c 1985 | ||
| 300 | |a 171, 16 S. : |b fotogr., grafy, lit., obr., tab. ; | ||
| 910 | |b A454457 | ||
| 974 | |f Knihy | ||
| 992 | |a DDZ | ||
| 999 | |c 84296 |d 84296 | ||