Photoresponse of patterned YBa2Cu3O7-x thin films /

Saved in:
Bibliographic Details
Main Author: Danerud, Martin
Format: Thesis Book
Language:English
Published: Göteborg : Chalmers Tekniska Högskola, 1994
Edition:[1st ed.]
Subjects:
ISBN:9170329184
Online Access: Get full text
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!

MARC

LEADER 00000nam a2200000 4500
003 SK-BrCVT
005 20220617175301.0
008 940614s1994 sw e ||||||eng d
020 |a 9170329184 
035 |a CVTIDW0922108 
040 |b slo  |a CVTI SR 
041 0 |a eng 
044 |a sw 
080 |a 537(043.3  |2 UDC-MRF 
080 |a 539(043.3)  |2 UDC-MRF 
080 |a 535.374:621.375.8(043.3)  |2 UDC-MRF 
100 1 |a Danerud, Martin 
242 1 0 |a Fotorecitlivosť modelových tenkých vrstiev YBa2Cu3O7-X 
245 1 0 |a Photoresponse of patterned YBa2Cu3O7-x thin films /  |c Martin Danerud 
250 |a [1st ed.] 
260 |a Göteborg :  |b Chalmers Tekniska Högskola,  |c 1994 
300 |a [170 s.] :  |b fotogr., grafy, lit., obr., tab. ; 
502 |d 4. 2. 1994 
653 1 |a amplitúdová modulácia  |a laserové nanášanie vrstiev  |a elektrónový ohrev 
910 |b A542399 
919 |a 91-7032-918-4 
974 |f Knihy 
992 |a DDZ 
999 |c 80261  |d 80261