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Resists in microlithography and printing /

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	Bednář, Bohumil
Weitere Verfasser:	Smetanová, M.
Format:	Buch
Sprache:	Englisch
Veröffentlicht:	Praha : Academia, nakladatelství Československé akademie věd, 1993
Ausgabe:	2nd revised ed.
Schlagworte:	fotolitografia > röntgenová litografia > polymetakrylát > negatívny fotorezistný materiál
ISBN:	8020002898
Online-Zugang:
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