Resists in microlithography and printing /

Uloženo v:
Podrobná bibliografie
Hlavní autor: Bednář, Bohumil
Další autoři: Smetanová, M.
Médium: Kniha
Jazyk:angličtina
Vydáno: Praha : Academia, nakladatelství Československé akademie věd, 1993
Vydání:2nd revised ed.
Témata:
fotolitografia > röntgenová litografia > polymetakrylát > negatívny fotorezistný materiál
ISBN:8020002898
On-line přístup: Získat plný text
Tagy: Přidat tag
Žádné tagy, Buďte první, kdo vytvoří štítek k tomuto záznamu!

MARC

LEADER 00000nam a2200000 4500
003 SK-BrCVT
005 20220617164450.0
008 940322s1993 xr e ||||||eng d
020 |a 8020002898 
035 |a CVTIDW0912096 
040 |b slo  |a CVTI SR 
041 0 |a eng 
044 |a xr 
080 |a 655  |2 UDC-MRF 
100 1 |a Bednář, Bohumil 
242 1 0 |a Rezistentné materiály v mikrolitografii a tlačiarenstve 
245 1 0 |a Resists in microlithography and printing /  |c Authors: Bohumil Bednář a kol. ; Transl. M. Smetanová 
250 |a 2nd revised ed. 
260 |a Praha :  |b Academia, nakladatelství Československé akademie věd,  |c 1993 
300 |a 376 s. :  |b grafy, lit., obr., tab. ; 
653 1 |a fotolitografia  |a röntgenová litografia  |a polymetakrylát  |a negatívny fotorezistný materiál 
700 1 |a Smetanová, M. 
910 |b A541339  |b A537605 
919 |a 80-200-0289-8 
974 |f Knihy 
992 |a AMG 
999 |c 69679  |d 69679 

Podobné jednotky