Untersuchungen tiefer Haftstellen an Grenzflächen von Feldeffekttransistoren /

Uloženo v:
Podrobná bibliografie
Hlavní autor: Lee, Gyoo-Yeong
Médium: Diplomová práce Kniha
Jazyk:němčina
Vydáno: Hannover : Universität, 1992
Vydání:[1. Aufl.]
Témata:
On-line přístup: Získat plný text
Tagy: Přidat tag
Žádné tagy, Buďte první, kdo vytvoří štítek k tomuto záznamu!

MARC

LEADER 00000nam a2200000 4500
003 SK-BrCVT
005 20220617164428.0
008 930630s1992 gw e ||||||ger d
035 |a CVTIDW0912181 
040 |b slo  |a CVTI SR 
041 0 |a ger 
044 |a gw 
080 |a 621.382.323(043.3)  |2 UDC-MRF 
080 |a 621.315.592(043.3)  |2 UDC-MRF 
100 1 |a Lee, Gyoo-Yeong 
242 1 0 |a Skúmanie hlbokých adhéznych miest na hraničných plochách tranzistorov riadených poľom 
245 1 0 |a Untersuchungen tiefer Haftstellen an Grenzflächen von Feldeffekttransistoren /  |c Gyoo-Yeong Lee 
250 |a [1. Aufl.] 
260 |a Hannover :  |b Universität,  |c 1992 
300 |a 127 s. :  |b grafy, lit., obr., tab. ; 
502 |d 2. 7. 1992 
653 1 |a polovodič  |a MOS dióda 
910 |b A537888 
974 |f Knihy 
992 |a DDZ 
999 |c 69550  |d 69550