SOME STUDIES RELATED TO LASER ANNEALING OF ION IMPLANTED SILICON /

Uloženo v:
Podrobná bibliografie
Hlavní autor: Alestig, Goran
Médium: Kniha
Jazyk:angličtina
Vydáno: Göteborg : Chalmers Tekniska Högskola, 1986
On-line přístup: Získat plný text
Tagy: Přidat tag
Žádné tagy, Buďte první, kdo vytvoří štítek k tomuto záznamu!

MARC

LEADER 00000nam a2200000 4500
003 SK-BrCVT
005 20220617163001.0
008 860101s1986 sw e ||||||eng d
035 |a CVTIDW0910240 
040 |b slo  |a CVTI SR 
041 0 |a eng 
044 |a sw 
080 |a 535.374:621.375.8  |2 UDC-MRF 
080 |a 537.5:546.28  |2 UDC-MRF 
100 1 |a Alestig, Goran 
242 1 0 |a LASEROVÉ ŽÍHANIE IONTOVO IMPLANTOVANÉHO KREMÍKA 
245 1 0 |a SOME STUDIES RELATED TO LASER ANNEALING OF ION IMPLANTED SILICON /  |c Goran Alestig 
260 |a Göteborg :  |b Chalmers Tekniska Högskola,  |c 1986 
300 |a PRERUŠ. STR. :  |b grafy, obr. ; 
910 |b A461707 
974 |f Knihy 
992 |a DDZ 
999 |c 64774  |d 64774