Chemical vapour deposition of Tungsten from WF6/SiH4 and WF6/GeH4 /
Uloženo v:
| Hlavní autor: | |
|---|---|
| Médium: | Diplomová práce Kniha |
| Jazyk: | angličtina |
| Vydáno: |
Delft :
Technická univerzita,
1992
|
| Vydání: | 1st ed. |
| Témata: | |
| On-line přístup: |
|
| Tagy: |
Přidat tag
Žádné tagy, Buďte první, kdo vytvoří štítek k tomuto záznamu!
|
| Fyzický popis: | X, 112 s. : fotogr., grafy, lit., obr., tab. ; |
|---|