Jeugd, C. A. v. d. (1992). Chemical vapour deposition of Tungsten from WF6/SiH4 and WF6/GeH4. Technická univerzita.
Citácia podle Chicago (17th ed.)Jeugd, Cornelius Alexander van der. Chemical Vapour Deposition of Tungsten from WF6/SiH4 and WF6/GeH4. Delft: Technická univerzita, 1992.
Citácia podľa MLA (8th ed.)Jeugd, Cornelius Alexander van der. Chemical Vapour Deposition of Tungsten from WF6/SiH4 and WF6/GeH4. Technická univerzita, 1992.
Upozornenie: Tieto citáce sú generované automaticky. Nemusia byť úplne správne podľa citačných pravidiel..