Citace podle APA (7th ed.)

Jeugd, C. A. v. d. (1992). Chemical vapour deposition of Tungsten from WF6/SiH4 and WF6/GeH4. Technická univerzita.

Citace podle Chicago (17th ed.)

Jeugd, Cornelius Alexander van der. Chemical Vapour Deposition of Tungsten from WF6/SiH4 and WF6/GeH4. Delft: Technická univerzita, 1992.

Citace podle MLA (9th ed.)

Jeugd, Cornelius Alexander van der. Chemical Vapour Deposition of Tungsten from WF6/SiH4 and WF6/GeH4. Technická univerzita, 1992.

Upozornění: Tyto citace jsou generovány automaticky. Nemusí být zcela správně podle citačních pravidel..