Plasma chemistry of fluorocarbon RF discharges used for dry etching /
Gespeichert in:
| 1. Verfasser: | |
|---|---|
| Format: | Buch |
| Sprache: | Englisch |
| Veröffentlicht: |
Eindhoven :
Technická univerzita,
1991
|
| Ausgabe: | 1st ed. |
| Online-Zugang: |
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Online
CVTI sklad absenčný
| Signatur: |
A528561 |
|---|---|
| Exemplar | On Shelf |