Plasma chemistry of fluorocarbon RF discharges used for dry etching /
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| 1. Verfasser: | |
|---|---|
| Format: | Buch |
| Sprache: | Englisch |
| Veröffentlicht: |
Eindhoven :
Technická univerzita,
1991
|
| Ausgabe: | 1st ed. |
| Online-Zugang: |
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