Plasma chemistry of fluorocarbon RF discharges used for dry etching /
Gespeichert in:
| 1. Verfasser: | |
|---|---|
| Format: | Buch |
| Sprache: | Englisch |
| Veröffentlicht: |
Eindhoven :
Technická univerzita,
1991
|
| Ausgabe: | 1st ed. |
| Online-Zugang: |
|
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Beschreibung: | 134 s. |
|---|