Haverlag, M. (1991). Plasma chemistry of fluorocarbon RF discharges used for dry etching. Technická univerzita.
Citácia podle Chicago (17th ed.)Haverlag, Marco. Plasma Chemistry of Fluorocarbon RF Discharges Used for Dry Etching. Eindhoven: Technická univerzita, 1991.
Citácia podľa MLA (8th ed.)Haverlag, Marco. Plasma Chemistry of Fluorocarbon RF Discharges Used for Dry Etching. Technická univerzita, 1991.
Upozornenie: Tieto citáce sú generované automaticky. Nemusia byť úplne správne podľa citačných pravidiel..