On the throughput optimization of electron beam lithography systems /

Saved in:
Bibliographic Details
Main Author: Mulder, Elvira Hendrika
Format: Thesis Book
Language:English
Published: Delft : Technická univerzita, 1991
Edition:1st ed.
Subjects:
Online Access: Get full text
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!

MARC

LEADER 00000nam a2200000 4500
003 SK-BrCVT
005 20220617145156.0
008 920224s1991 ne e ||||||eng d
035 |a CVTIDW0898117 
040 |b slo  |a CVTI SR  |e AACR2 
041 0 |a eng 
044 |a ne 
080 |a 763:519.863(043.3)  |2 UDC-MRF 
080 |a 535(043.3)  |2 UDC-MRF 
080 |a 621.3(043.3)  |2 UDC-MRF 
100 1 |a Mulder, Elvira Hendrika 
242 1 0 |a Optimalizácia litografických systémov s elektrónovým lúčom z hľadiska výkonu 
245 1 0 |a On the throughput optimization of electron beam lithography systems /  |c Elvira Hendrika Mulder 
250 |a 1st ed. 
260 |a Delft :  |b Technická univerzita,  |c 1991 
300 |a Preruš. str. :  |b fotogr., grafy, lit., obr., tab. ; 
502 |d 13. 6. 1991 
653 1 |a optika  |a šošovka  |a deflektor  |a raster 
692 |a HA VD JM MM 
910 |b A528329 
974 |f Knihy 
992 |a DDZ 
999 |c 41457  |d 41457