Photoreactive polymers : The science and technology of resists /

Saved in:
Bibliographic Details
Main Author: Reiser, Arnošt
Format: Book
Language:English
Published: New York : John Wiley & Sons, 1989
ISBN:0471855502
Online Access: Get full text
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!

MARC

LEADER 00000nam a2200000 4500
003 SK-BrCVT
005 20220617125614.0
008 880101s1989 xxu e ||||||eng d
020 |a 0471855502 
035 |a CVTIDW0880787 
040 |b slo  |a CVTI SR 
041 0 |a eng 
044 |a xxu 
080 |a 541.14  |2 UDC-MRF 
080 |a 678:535  |2 UDC-MRF 
100 1 |a Reiser, Arnošt 
242 1 0 |a Fotoreaktívne polyméry. Veda a technológia odolných materiálov 
245 1 0 |a Photoreactive polymers :  |b The science and technology of resists /  |c Arnost Reiser 
260 |a New York :  |b John Wiley & Sons,  |c 1989 
300 |a 12, 409 s. :  |b fotogr., grafy, lit., obr., tab. ; 
692 |a MM JM 
910 |b A515804 
919 |a 0-471-85550-2 
974 |f Knihy 
992 |a AMG 
999 |c 29265  |d 29265