Vacuum deposition by pulsed laser radiation : Plasma composition, deposition techniques and thin film properties /
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| 1. Verfasser: | |
|---|---|
| Format: | Abschlussarbeit Buch |
| Sprache: | Englisch |
| Veröffentlicht: |
Delft :
Technická univerzita,
1989
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MARC
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| 245 | 1 | 0 | |a Vacuum deposition by pulsed laser radiation : |b Plasma composition, deposition techniques and thin film properties / |c Liang Shi |
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