Shi, L. (1989). Vacuum deposition by pulsed laser radiation: Plasma composition, deposition techniques and thin film properties. Technická univerzita.
Citace podle Chicago (17th ed.)Shi, Liang. Vacuum Deposition by Pulsed Laser Radiation: Plasma Composition, Deposition Techniques and Thin Film Properties. Delft: Technická univerzita, 1989.
Citace podle MLA (9th ed.)Shi, Liang. Vacuum Deposition by Pulsed Laser Radiation: Plasma Composition, Deposition Techniques and Thin Film Properties. Technická univerzita, 1989.
Upozornění: Tyto citace jsou generovány automaticky. Nemusí být zcela správně podle citačních pravidel..