Herstellung und Wachstum einkristalliner Si/CoSi2/Si-Heterostrukturen nach Hochdosis-Ionenimplantation /
Uloženo v:
| Hlavní autor: | |
|---|---|
| Médium: | Diplomová práce Kniha |
| Jazyk: | němčina |
| Vydáno: |
Köln :
Universität,
1989
|
| On-line přístup: |
|
| Tagy: |
Přidat tag
Žádné tagy, Buďte první, kdo vytvoří štítek k tomuto záznamu!
|
MARC
| LEADER | 00000nam a2200000 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 003 | SK-BrCVT | ||
| 005 | 20220617125417.0 | ||
| 008 | 880101s1989 gw e ||||||ger d | ||
| 035 | |a CVTIDW0880572 | ||
| 040 | |b slo |a CVTI SR | ||
| 041 | 0 | |a ger | |
| 044 | |a gw | ||
| 080 | |a 621.3.049.77:621.793:548.25 |2 UDC-MRF | ||
| 080 | |a 546.28:546.73 |2 UDC-MRF | ||
| 100 | 1 | |a Kohlhof, Karl | |
| 242 | 1 | 0 | |a Zhotovenie a rast monokryštalických Si/CoSi2/Si-+heteroštruktúr podľa vysokodávkovej iónovej implantácie |
| 245 | 1 | 0 | |a Herstellung und Wachstum einkristalliner Si/CoSi2/Si-Heterostrukturen nach Hochdosis-Ionenimplantation / |c Karl Kohlhof |
| 260 | |a Köln : |b Universität, |c 1989 | ||
| 300 | |a 88 s., príl. : |b fotogr., grafy, lit., obr., tab. ; | ||
| 502 | |d 1. 7. 1989 | ||
| 692 | |a MM JM | ||
| 910 | |b A514662 | ||
| 974 | |f Knihy | ||
| 992 | |a DDZ | ||
| 999 | |c 28870 |d 28870 | ||