The 30th international conference on plasma science : IEEE conf. record - abstracts, Jeju, Korea, June 2 - 5, 2003 /

Uloženo v:
Podrobná bibliografie
Hlavní autor: Lee, Byung Hak
Korporativní autor: IEEE conf. record - abstracts Korea, Jeju
Médium: Konferenční příspěvek Kniha
Jazyk:angličtina
Vydáno: Piscataway : Institute of Electrical and Electronics Engineers, 2003
Vydání:[1st ed.]
Témata:
mikrovlnové zariadenie > impulzový výkon > mikroelektronika > tenká vrstva > zdroj žiarenia
ISBN:078037911X
On-line přístup: Získat plný text
Tagy: Přidat tag
Žádné tagy, Buďte první, kdo vytvoří štítek k tomuto záznamu!

MARC

LEADER 00000nam a2200000 4500
003 SK-BrCVT
005 20220617211509.0
008 031101s2003 xxu e ||||||eng d
020 |a 078037911X 
035 |a CVTIDW0969913 
040 |b slo  |a CVTI SR 
041 0 |a eng 
044 |a xxu 
080 |a 533.9  |2 UDC-MRF 
080 |a 621.3  |2 UDC-MRF 
100 1 |a Lee, Byung Hak 
111 0 |a IEEE conf. record - abstracts  |d (June 2 - 5, 2003 :  |c Korea, Jeju) 
242 1 0 |a 30. medzinárodná konferencia venovaná náuke o plazme 
245 1 4 |a The 30th international conference on plasma science :  |b IEEE conf. record - abstracts, Jeju, Korea, June 2 - 5, 2003 /  |c Authors: Byung Hak Lee and Co. 
250 |a [1st ed.] 
260 |a Piscataway :  |b Institute of Electrical and Electronics Engineers,  |c 2003 
300 |a 536 s. :  |b fotogr., grafy, lit., obr. ; 
653 1 |a mikrovlnové zariadenie  |a impulzový výkon  |a mikroelektronika  |a tenká vrstva  |a zdroj žiarenia 
910 |b A588607  |b A588608 
919 |a 0-7803-7911-X 
974 |f Knihy 
992 |a AZN 
999 |c 127448  |d 127448 

Podobné jednotky