High rate plasma deposition of silicon oxide like films /

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Hest, Marinus Franciscus Antonius Maria van
Format: Abschlussarbeit Buch
Sprache:Englisch
Veröffentlicht: Eindhoven : Technická univerzita, 2002
Ausgabe:[1st ed.]
Schlagworte:
ISBN:9038620098
Online-Zugang: Volltext
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!

MARC

LEADER 00000nam a2200000 4500
003 SK-BrCVT
005 20220617211129.0
008 030602s2002 ne e ||||||eng d
020 |a 9038620098 
035 |a CVTIDW0968520 
040 |b slo  |a CVTI SR 
041 0 |a eng 
044 |a ne 
080 |a 547  |2 UDC-MRF 
080 |a 533.9:546.28:544.023  |2 UDC-MRF 
080 |a 543.42  |2 UDC-MRF 
100 1 |a Hest, Marinus Franciscus Antonius Maria van 
242 1 0 |a Vysokovýkonné plazmové nanášanie vrstiev podobných oxidu kremíka 
245 1 0 |a High rate plasma deposition of silicon oxide like films /  |c Marinus Franciscus Antonius Maria van Hest 
250 |a [1st ed.] 
260 |a Eindhoven :  |b Technická univerzita,  |c 2002 
300 |a II, 176 s. :  |b grafy, lit., obr., tab. ; 
502 |d 27. 8. 2002 
653 1 |a infračervená spektroskopia  |a elipsometria 
692 |a GM OR JM MM 
910 |b A587237 
919 |a 90-386-2009-8 
974 |f Knihy 
992 |a DDZ 
999 |c 126357  |d 126357