Developments in semiconductor microlithography. Vol. 4 : Proceedings, California, April 23 - 24, 1979 /
Uloženo v:
| Hlavní autor: | |
|---|---|
| Korporativní autor: | |
| Médium: | Konferenční příspěvek Kniha |
| Jazyk: | angličtina |
| Vydáno: |
San Jose :
Soc. of Photo-optical Instrumentation Engineers,
1979
|
| Edice: | SPOIE
Vol. 174 |
| On-line přístup: |
|
| Tagy: |
Přidat tag
Žádné tagy, Buďte první, kdo vytvoří štítek k tomuto záznamu!
|
MARC
| LEADER | 00000nam a2200000 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 003 | SK-BrCVT | ||
| 005 | 20220617210617.0 | ||
| 008 | 030202s1979 xxu e ||||||eng d | ||
| 035 | |a CVTIDW0966927 | ||
| 040 | |b slo |a CVTI SR | ||
| 041 | 0 | |a eng | |
| 044 | |a xxu | ||
| 080 | |a 778.12:621.315.592 |2 UDC-MRF | ||
| 100 | 1 | |a Sumney, Larry W. | |
| 111 | 0 | |a Proceedings |d (April 23 - 24, 1979 : |c California) | |
| 242 | 1 | 0 | |a Vývoj v oblasti polovodičovej mikrolitografie. Zv. 4 |
| 245 | 1 | 0 | |a Developments in semiconductor microlithography. Vol. 4 : |b Proceedings, California, April 23 - 24, 1979 / |c Authors: Larry W. Sumney and Co. |
| 260 | |a San Jose : |b Soc. of Photo-optical Instrumentation Engineers, |c 1979 | ||
| 300 | |a 6, 194 s. | ||
| 490 | 0 | |a SPOIE |v Vol. 174 | |
| 692 | |a DD AS JM MM | ||
| 760 | 1 | |t SPOIE |g Vol. 174 | |
| 910 | |b A407221 | ||
| 974 | |f Knihy | ||
| 992 | |a AZN | ||
| 999 | |c 125059 |d 125059 | ||