Photolitography simulation /

Uloženo v:
Podrobná bibliografie
Hlavní autor: Kirchauer, Heinrich
Médium: Diplomová práce Kniha
Jazyk:angličtina
Vydáno: Wien : Technická univerzita, 2000
Vydání:[1st ed.]
Edice:Dissertationen Band 90
Témata:
polovodičová technológia > optický systém > fotomaska > Fourierova optika > transformácia
ISBN:3854372043
On-line přístup: Získat plný text
Tagy: Přidat tag
Žádné tagy, Buďte první, kdo vytvoří štítek k tomuto záznamu!

MARC

LEADER 00000nam a2200000 4500
003 SK-BrCVT
005 20220617210059.0
008 010302s2000 au e ||||||eng d
020 |a 3854372043 
035 |a CVTIDW0957602 
040 |b slo  |a CVTI SR 
041 0 |a eng 
044 |a au 
080 |a 621.382:535:51  |2 UDC-MRF 
100 1 |a Kirchauer, Heinrich 
242 1 0 |a Fotolitografická simulácia 
245 1 0 |a Photolitography simulation /  |c Heinrich Kirchauer 
250 |a [1st ed.] 
260 |a Wien :  |b Technická univerzita,  |c 2000 
300 |a 221 s. :  |b fotogr., grafy, lit., obr., tab. ; 
490 0 |a Dissertationen  |v Band 90 
502 |d März 1998 
653 1 |a polovodičová technológia  |a optický systém  |a fotomaska  |a Fourierova optika  |a transformácia 
760 1 |t Dissertationen  |g Band 90 
910 |b A576602 
919 |a 3-85437-204-3 
974 |f Knihy 
992 |a DDZ 
999 |c 123435  |d 123435 

Podobné jednotky